硅光子技能是集成电路后摩尔年代的展开方向之一，旨在使用依据CMOS工艺的大规模集成电路技能在硅基衬底上进行光子器材和芯片的开发，终究完成光电单片集成。硅光子技能的优势在于充分使用老练的CMOS基础设施和经历，依据市场需求，完成低本钱大规模量产。但光子器材和芯片的资料挑选和工艺流程与集成电路存在必定的差异，需求进行相关工艺的开发。近年来，欧美等国在硅光子范畴已有很多投入和经历堆集，并逐步构成工业优势。我国虽在分立器材的规划和制造方面效果明显，但国内尚无完善的硅光子工艺渠道，国内规划的高端硅光子芯片根本都要在国外流片，导致本钱高、周期长、难以进行工艺定制等问题，很大程度上限制了我国硅光子技能的展开。

　　微电子所集成电路先导工艺研制中心具有一条完好的8英寸CMOS工艺线年建成以来出色完结了多项国家严重科技专项课题。2015年，中心结合微电子技能和光电子技能交融的展开趋势，决断安排团队，依托先导中心CMOS工艺线进行硅光子工艺技能的开发。硅光子团队建立以来展开了很多详尽的研制作业，并与中科院半导体所、中电38所和武汉邮电科学院严密协作，联合建立了硅光子渠道开发小组，发挥各单位优势，确立了硅光子渠道PDK计划，规划了硅光子无源和有源器材库地图，进行了屡次工艺流片试验。通过近两年的尽力，成功开发了系列硅光子流片工艺模块和初版PDK，其间标准单元库首要包含单模波导、Y-分支、光穿插器、耦合光栅等无源器材，而最近有源工艺的成功开发，将向标准单元库中增加加热电极、调制器和Ge光电探测器等有源器材。

　　此次有源器材流片的成功，加上先导中心2016年上半年开发成功的硅光子无源工艺及器材（图3），使微电子所硅光子渠道已具有为业界供给依据180nm工艺的硅光子流片服务的才能，成为国内首个依据8英寸CMOS工艺线向用户供给完好硅光子MPW和定制流片服务的渠道，将为我国硅光子研讨和使用开发供给有力支撑。